常州涂布机Q150T适用于SEM，TEM和许多薄膜应用。它有三种格式可供选择：作为溅射镀膜机，涂布机碳或两者在一个紧凑的系统。旋转泵浦Q150R适用于W-SEM溅射非氧化性（高贵）金属和碳包覆标本进行扫描电镜，EDS和WDS。对于较大的标本中，Q300R T（旋转泵）和Q300T T（涡轮分子泵浦）模型允许一个单一的大试样直径的涂层高达8“/ 200毫米（例如晶片），或多个较小的标本过类似的直径。两者都三重溅射头，以保证均匀沉积。

　　涂布机行业对于薄膜应用的Q300T D双序贯目标溅射镀膜机允许，而无需破坏真空待沉积连续的金属层。所述Q150GB是对ESQ150T设计成集成到手套箱中的一个模块化的版本。完成范围是SC7620，紧凑，入门级的SEM溅射镀膜机其可与可选的碳纤维附着蒸发。所述SC7620主要设计用于涂覆试样之前检查在钨丝的EMS。对于^需要的应用FE-SEM超细晶粒涂层，高真空镀膜要求 - 看到Q150T或Q300TT。对于全自动涂布机W-SEM领域应用请看Q150R。
　　
　　操作方便
　　
　　该SC7620是理想的精打细算的用户谁从一个易于使用的仪器质量要求的薄膜沉积。专为日常应用，SC7620采用了基本的磁控溅射头用一个简单的更换的目标盘（金/钯金为标准）。溅射头铰链，易于操作，并配备了电气安全联锁装置。甲面板安装开关允许系统溅射涂覆和辉光放电模式之间改变。为了防止意外损坏高压引线屏蔽。等离子体电流是通过调整使用氩等离子体与泄漏阀被预置电压的真空度的变量。为了获得^大的效率溅射涂覆气体喷射系统确保氩气进入腔室附近的等离子体放电。通风是氩气。
　　
　　泵送要求
　　
　　合适的旋转式真空泵是必需的。所述法伊弗DUO 6 5立方米/小时的两级旋转式真空泵是理想的这一目的。更多详情请参见订购信息。循环时间短，高度可调的样品台，100毫米/ 4“直径的Pyrex筒被安装在铝套环和具有O形环密封。小尺寸是指真空室抽空时间和周期时间是快速的，并也允许使用小经济旋转泵。样品载物台是高度可调节，它可以容易地除去，以适应较高的标本。淀积速率是由一个180秒的计时器带15第二分辨率手动控制。等离子电流和压力是通过模拟仪表监控。
　　
　　溅射和SEM碳涂层（可选）
　　
　　该SC7620将沉积涂层适用于钨丝EMS使用和操作简单的优势，确保可靠性和适用性用于一般用途。它可以迅速转化为沉积碳通过加入任选的碳蒸发附着的，由可切换的电源电压，一个碳纤维头（见：下面SC7620-CF）。碳附件配备了一个额外的玻璃圆柱体。这是比标准溅射涂布机滚筒更高，确保了碳纤维和试样之间的距离是^适合于蒸发过程。