在20世纪初，德国化学家Griesheim-Elektron以及俄罗斯化学家Ivan Ostromislensky和Fritz Klatte都试图在商业产品中使用CVD，但是加工刚性，有时是脆性聚合物的困难阻碍了他们的努力。 一些科学家经过不断的综合努力已经对这种CVD方法进行了广泛的研究和优化，在具有前体递送模块的独特系统上开发，所述前体递送模块能够递送适合于2D材料生长的宽范围的液体/固体/金属有机前体。在包括ALD氧化铝（Al2O3和SiO2）的一系列衬底上提供生长，该系统能够沉积其他2D过渡金属二硫属化物（TMDCs），如WS2，MoSe2等。 “等离子体处理系统的2D材料处理能力进入一个新阶段，”这种工艺开发及其成熟的结果对所有的涂布机厂家都可以说是一件非常令人兴奋的事，“等离子体技术战略营销和业务发展总监说道，”分析高质量的单层，用AFM显示所得的平滑和均匀的膜。我们预计，这种2D材料增长的发展将促进下一代纳米电子器件。
氮化钛是通过物理气相沉积（PVD）工艺施加到金属表面的亮金色陶瓷涂层。 该涂层具有高硬度和低摩擦以及适度的抗氧化性。 涂布机中常用的TiN涂层到目前为止也广泛的用于提高切削和压制工具的寿命和性能，其中需要成本有效地降低工具磨损。 它也可以用作磨损指示剂。涂层具有非常吸引人的亮金色，这种独特的特征导致TiN也用于许多装饰应用中。 应用医疗植入物和仪器航空零件切割工具 – 钻头，铣刀，铰刀，丝锥，齿轮刀具和刀片塑料成型工具 – 特别是高精加工工具冲压工具冲压，冲孔和冷成型。 由于工艺解决方案提供商广泛的应用，将其宣布使用其高性能纳米级生长系统的MoS2生长过程的发展和推出。单层MoS2是直接带隙半导体，其在光电子学中具有广泛的应用，例如LED，光伏，光电探测器和生物传感器，而多层MoS 2是间接带隙半导体，其在未来的数字电子学中显示出希望。
在^近几年，PVD涂层已经收到越来越多地使用，并且不再看作是一个实验室处理的真空蒸镀法。它已经扩大了以合理的成本来处理大型复杂零件的几何形状。许多公司已经实现了从他们的产品从电镀转换为PVD涂层的好处。涂层可以从室温被沉积到摄氏高达500度根据基底和应用上。 涂布机的PVD涂层工艺提供更均匀的沉积，在某些情况下进行六次操作后，能更大的改进的粘合作用，使得材料更广泛的选择要沉积，并且没有有害的化学物质来处置。因为PVD涂层更环保和化学处理成本^低，PVD涂层和电镀的成本上的一些产品非常接近。 当产品是PVD涂层它是在一个夹具放置并在真空容器放置。该装置抽空到所需的真空压力。根据在衬底上和方法中使用的产品将被预热和溅射清洁。溅射清洁完成后，负电荷被施加到阴极材料，并且如果基底是导电的，一个负偏压被施加到基底上。沉积在材料到达在高能量水平的基板和，直到它到达一个优选的成核位点会沿着基板表面行进。离子从源头上不断轰击溅射沉积材料，这样你就不会收到大边集结这是常见的电镀层。
电镀在行业中是已经使用并且经过多年的发展演变。在当今快节奏的商业环境，企业需要保持和平与不断进化，发生两到技术改进，很多时候，因为这是一直以来使用的公司将使用电镀默认，很多时候，采用分切机进行电镀分切是一个更好的解决方案。 当产品被电镀它被放置到的含有原料溶液的罐，以进行沉积。电源的阴极（负极）附着到待镀的产品。电源的阳极（正极）连接到要存入的材料。当从电源负电荷的产品吸引的材料的正离子所施加的功率要存款即在电镀溶液中。阳极材料将补充材料中即沉积在衬底上的溶液。 电镀技术是电镀的低能量形式。因为它是一种低能量的电化学方法，离子到达具有相对低的能量和沉积在表面上的基板。大边缘集结是常见的，在这个过程中无法控制的。另外，零件的几何形状会影响存款的均匀性。通道和缝隙是电镀非常困难的，而不会收到在外部边缘上的大集结。
不同的涂布涂层生产机械在不同的生产工人手中进行操作会产生不同的涂布涂层做法。如果采用进口的钢杆传动系统，那其运行会更平稳，可利用周期也会更长，行程的控制也非常^。 涂布机生产厂家一般会对不同布类、塑胶皮、泡绵、HS、回力胶、EVA、纸板等鞋材类材料才会让不同的生产工人操作。具体使用的机械也可以有多种选择，有：立式单胶槽网带贴合机、横式单胶槽网带贴合机、强力胶贴合机、火焰贴合机、SBR专用贴合机、纸品贴合机、金葱粉贴合机、球类贴合机、喷胶贴合机、TPU膜贴合机、防水透气膜贴合机、服装布与布贴合机、热熔胶贴合机、砂纸贴合机、热熔胶膜贴合机等。 涂布前，将清洁的，绷好网的网版从涂布机生产厂家前面装入，有的机型也可从侧面装入网版。在为大幅面网框设计的机型中，侧面装版更为常见，因为网框大且笨重，侧面装版，可使抬升量和搬动量小一些。在自动丝网涂布机与其他自动丝网处理设备（如清洁设备、再生设备、干燥装置和显影机）联机运行时，从侧面装版更为便利。
不干胶技术是目前涂布涂层技术中广泛受到业界许多生产企业关注的一种涂层技术，这种不干胶的技术大部分是利用涂布机进行作业的其涂膜由多层涂层组成，可根据被涂物件的要求来决定涂层的厚薄。目前^爱欢迎的小型涂布机就不干胶技术，同时也融合使用了数控面板，其程序完全自主设定，可实现三种模式下的存储，人们可根据不同的模式来调节涂布距离与涂布速度。 这种不干胶的涂布涂层技术主要作用于以BOPP、PVC、PET、PE、美纹纸、牛皮纸、双面胶等纸塑类的原材料，具体有：不干胶（自粘）涂布机、PET涂布机、汽车防爆膜涂布机、BOPP涂布机、PE保护膜涂布机等。 不干胶的涂布机的工作原理：用于网印制版的涂布机的生产厂家的工作原理是相同的，但其性能根据不同的机型及不同的生产厂家而不同。丝网涂布机在垂直的机架上都设有能夹紧网框的装置。丝网区的前后是水平的涂布机构，这个涂布机构由涂布槽，以及控制涂布槽角度和压力的机械部件或气动部件组成。
抗反射或抗反射（AR）涂层是施加到透镜和其他光学元件的表面以减少反射的一种光学涂层。 在典型的成像系统中，涂布机生产厂家使用AR光学涂层后，提高了涂层效率，更少的减少了光涂层的损失。在诸如望远镜的复杂系统中，反射的减少还通过消除杂散光来改善图像的对比度。 这在行星天文学中特别重要。在其它应用中，主要益处是消除反射本身，例如眼镜镜片上的涂层，使佩戴者的眼睛对其他人更可见，或涂层以减少来自隐蔽的观看者的双筒望远镜或望远镜瞄准器的闪光。 这使得结构的性能随着波长和入射角而改变，使得颜色效应经常以倾斜角度出现。在设计或订购这样的涂层时，必须指定波长范围，但是对于相对宽的频率范围通常可以实现良好的性能：通常选择IR，可见光或UV。 应用程序：抗反射涂层用于光通过光学表面的多种应用中，并且需要低损耗或低反射。 实例包括校正透镜和相机透镜元件上的防眩涂层。
VCM的聚合由称为引发剂的混合到液滴中的化合物开始，这些化合物分解以开始自由基链反应，VCM材料的涂布机的核心优势就包括对二辛酰基过氧化物和二十六烷基过氧化二碳酸酯的涂布操作。一些引发剂快速开始反应但迅速衰减，而其它引发剂具有相反的效果。通常使用两种不同引发剂的组合以提供均匀的聚合速率。在聚合物生长约10倍之后，短聚合物在VCM液滴内沉淀，并且聚合用沉淀的，溶剂溶胀的颗粒继续。商业聚合物的重均分子量为100,000至200,000，数均分子量为45,000至64,000。 一旦反应进行过程，将所得PVC淤浆脱气并汽提以除去过量的VCM，将其再循环。然后使聚合物通过离心机以除去水。将浆料在热空气床中进一步干燥，在储存或造粒之前将所得粉末筛分。通常，所得PVC的VCM含量小于百万分之1。其他生产工艺，如微悬浮聚合和乳液聚合，产生具有稍微不同的性质和稍微不同的应用集合的较小粒径（10μm对悬浮PVC的120-150μm）的PVC。
1）第一涂布长度偏差≤1mm，涂布间隙偏差≤1mm。 2）第二面与第一面的^大错位≤0.5mm。如有偏磨现象，涂布机生产厂家一般会检查活塞与缸套的配合精度，并在生产工艺上采取措施防止偏磨。更换密封圈时，要注意安全和防止带入赃物，支撑托板（下横梁）四角“顶杆”支撑稳固后再进行操作。 3）设定涂布工作方式和相关参数（涂布速度、段长、间隙长度、辊速比等），而后接通压缩空气（调节气动控制箱调压阀使气动压力在0.2～0.3Mpa之间）。 4）启动干燥风机和干燥温控仪。先起下衬套压圈（大直径活塞的压圈过重，可利用小型手动葫芦吊运），用铁丝钩逐个取出密封圈，换上新的，再紧住压圈。 5）接通自动纠偏和张力控制器电源。 6）设备各段温度均已达到工艺要求温度； 7）给涂布装置料斗加料，同时启动涂布机，进行涂布。
不管网版是如何装上的，一旦网版处于正确的位置，厂家表示，气动夹紧装置或机械式夹紧装置即闭合，将网版锁定。为了操作更为方便，许多机型都有脚踏板控制版夹动作，操作人员可以腾出双手来控制网版。安装完网版，向自动涂布机灌入相应的感光乳剂后，即可开始涂布。根据控制系统和设备所具有的功能，设备可同时对丝网的两面进行涂布。 涂布单元：涂布设备的有无或长短及干燥的方式（热风循环或红外线辅助），也随所选机型与滚轮或刮刀涂布而有不同的设计。胶水溶剂的挥发速率与机台的干燥条件息息相关，所以如何调整至材质所需的合适温度，对于使贴合时仍具有良好的粘性至关重要。 热压单元：热压轮的大小、表面温度的高低、加压时间的长短将与残留溶剂的挥发效率、胶水的活化程度及贴合效果的好坏有关。 冷却单元： 贴合成品在卷曲前，经冷却轮冷却，可促进胶水结晶，提升初期接着力，避免贴合材质在卷取时移位。